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UHV磁控濺射源
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UHV磁(ci)控(kong)濺(jian)射(she)源(yuan)是(shi)高(gao)質(zhi)量(liang)的(de)磁(ci)控(kong)濺(jian)射(she)源(yuan),用(yong)於(yu)超(chao)高(gao)真(zhen)空(kong)應(ying)用(yong)的(de)圓(yuan)形(xing)磁(ci)控(kong)管(guan),可(ke)以(yi)單(dan)獨(du)提(ti)供(gong),也(ye)可(ke)以(yi)集(ji)成(cheng)到(dao)定(ding)製(zhi)的(de)真(zhen)空(kong)係(xi)統(tong)中(zhong)。這(zhe)些(xie)圓(yuan)形(xing)磁(ci)控(kong)濺(jian)射(she)源(yuan)與(yu)所(suo)有(you) UHV 係統兼容。
產品詳情

主要特點:

  • 可烘烤至 250°C(無需移除磁鐵)

  • 高達 40% 的出色靶材利用率

  • 用於磁性材料的標準和強度磁體

  • 平衡或不平衡磁體配置的選項

  • 簡單的卡口夾,便於直接安裝目標

  • 包括手動或氣動控製快門之間的選擇

  • 可用的濺射靶尺寸:1 英寸、2 英寸和 3 英寸

  • 用戶友好的設計,帶有易於更換的磁鐵

  • 可定製的真空長度

  • 兼容 DC、RF、脈衝直流(單極或雙極)和 HiPIMS 電源

規格

恒星源1.0″2.0″3.0″
安裝法蘭 (CF (O.D.)4.5 英寸6.0 英寸6.0 英寸
114 毫米152 毫米152 毫米
NW63CFNW100CFNW100CF
兼容 UHV是的,可在高達 250°C 的溫度下烘烤(無需移除磁鐵)
真空長度200 毫米或 300 毫米 – 可根據要求提供特殊長度
源頭的真空直徑45 毫米72 毫米93 毫米
目標大小1.0 英寸(25 毫米)2.0 英寸(50 毫米)3.0 英寸(75 毫米)
目標物厚度(使用標準磁鐵的非磁性目標物)更大 3 毫米更大 3 毫米更大 3 毫米
目標物厚度(帶有強磁鐵的非磁性目標物)不適用更大 7 毫米更大 7 毫米
目標物厚度(帶有強磁鐵的磁性目標物)不可用 –更大 1 毫米更大 2 毫米
0.4mm,帶標準
磁性元件
磁鐵對於磁性或非磁性材料,平衡或不平衡,用戶可以輕鬆
更換
電源直流、射頻、脈衝直流(單極或雙極)、HiPIMS
快門一體式手動或可選氣動操作
冷卻更小水流量為 1 I/min
UHV磁控濺射源
UHV磁控濺射源
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產品詳情

主要特點:

  • 可烘烤至 250°C(無需移除磁鐵)

  • 高達 40% 的出色靶材利用率

  • 用於磁性材料的標準和強度磁體

  • 平衡或不平衡磁體配置的選項

  • 簡單的卡口夾,便於直接安裝目標

  • 包括手動或氣動控製快門之間的選擇

  • 可用的濺射靶尺寸:1 英寸、2 英寸和 3 英寸

  • 用戶友好的設計,帶有易於更換的磁鐵

  • 可定製的真空長度

  • 兼容 DC、RF、脈衝直流(單極或雙極)和 HiPIMS 電源

規格

恒星源1.0″2.0″3.0″
安裝法蘭 (CF (O.D.)4.5 英寸6.0 英寸6.0 英寸
114 毫米152 毫米152 毫米
NW63CFNW100CFNW100CF
兼容 UHV是的,可在高達 250°C 的溫度下烘烤(無需移除磁鐵)
真空長度200 毫米或 300 毫米 – 可根據要求提供特殊長度
源頭的真空直徑45 毫米72 毫米93 毫米
目標大小1.0 英寸(25 毫米)2.0 英寸(50 毫米)3.0 英寸(75 毫米)
目標物厚度(使用標準磁鐵的非磁性目標物)更大 3 毫米更大 3 毫米更大 3 毫米
目標物厚度(帶有強磁鐵的非磁性目標物)不適用更大 7 毫米更大 7 毫米
目標物厚度(帶有強磁鐵的磁性目標物)不可用 –更大 1 毫米更大 2 毫米
0.4mm,帶標準
磁性元件
磁鐵對於磁性或非磁性材料,平衡或不平衡,用戶可以輕鬆
更換
電源直流、射頻、脈衝直流(單極或雙極)、HiPIMS
快門一體式手動或可選氣動操作
冷卻更小水流量為 1 I/min

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