該係統由全球專業的沉積設備商製造,配置多種沉積方式(預留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.

目前該係統的超高真空條件沉積模式（隻用機械泵+分子泵
，極限真空可達5X10E-10Torr）。多種組合沉積模式，同一腔體實現多種功能沉積方式
，沉積源模式有:

磁控濺射源

電子束蒸發源

熱蒸發源

該係統高度靈活
，軟件操作方便
，專業為研究機構沉積超純度薄膜，是真正的超高真空沉積係統。

技術參數：

極限真空: <5x 10E-10 torr(經過24小時烘烤冷卻後)
；

鍍膜均勻度：<3%

樣品傳送: 便捷安放上置襯底

機櫃: 占用空間小結構
；

樣品台工作: 旋轉, 加熱, 加載偏壓；

樣品操作: 預抽真空室；

樣品尺寸: 1”、 2”
、 3”
、 4” 
、8”、12”等；

膜厚監控: 石英晶體微天平, 橢偏儀
；

烘烤: 內置加熱或外置保溫加熱；

簡單方便 的全自動軟件操作：全自動抽取真空並且程序自動運行。