主要特點

• 沉積無烴和非團聚的納米顆粒

• 從亞單層到高孔隙率 3-D 納米塗層

• 表麵等離子體清潔和功能化

• 生成純金屬或化合物納米顆粒
  ，如氧化物和氮化物。

• 多種材料可供選擇，包括 Ag、Au、Cu
  
  、Ni
  、Ir 和 Pt

• 使用石英晶體微量天平 （QCM） 進行實時沉積控製

• 可重複的工藝，典型循環時間為 30 分鍾

• 室溫沉積與石墨烯
  、膜和塑料等精密基材兼容

規格

• 重量：約 60 公斤（113 磅）

• 尺寸 ：（長x寬x高）70 x 50 x 60 厘米（27.6x 19.7 x 23.6 英寸）

消耗品

• 目標大小 ：直徑 1 英寸（25.4 毫米）
  ，更大厚度 3 毫米

• 更大采樣量： 直徑 50 毫米

• 材料 ：導電材料，包括 Ag、Au、Pt、Cu、Ni、Ti
  、Ir

控製軟件

直觀的用戶界麵易於使用，不需要任何真空經驗。預裝的沉積配方使用戶能夠立即開始沉積納米顆粒。

突出

• 抽真空和沉積序列的完全自動化。

• 針對 Au、Ag 和 Pt 等常見材料的預加載優化沉積設置。

• 高級用戶可以選擇控製沉積條件
  ，以根據他們的特定需求控製納米顆粒的尺寸和沉積速率。

• 使用沉積重量或沉積時間控製納米顆粒負載。

• 自動記錄所有過程和真空參數。