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jingdiankapannenggoutongguojingdianlijiangduogexinpianyijijingpiandeyibufenjiajindaojingpianxipanshang。zhezhongshebeiduiyuyanfajigoufeichangyouyong,yinweibingfeizongshikeyichuliwanzhengdejingyuan。 通過電靜力夾持芯片,可以在HF蒸汽釋放之前執行 MEMS 晶圓的
嚴格切割工藝。 該設備對於研發機構來說非常有用,因為研發機構並不總是能夠處理完整的晶圓。芯片的靜電夾緊允許在氫氟酸蒸汽釋放之前對MEMS晶片進行苛刻的切割過程。通過修改經典的製造順序,可以在輕腐
蝕性液體下刻蝕出MEMS器件。通過修改傳統的製造順序,可以生產出具有極其柔軟懸浮結構的 MEMS器件。 電靜力卡盤的使用非常簡單。 將芯片放置在晶圓支架上,並通過控製箱上的開關打開電力,並且電靜力的
大小可以進行調整。
優點:
操作簡單:將芯片放置在晶片架/吸盤上,通過控製器箱上的開關即可開啟靜電力。
可調節性:靜電力大小可調,以適應不同尺寸或材質的芯片,避免損壞脆弱的MEMS結構。
適用環境:特別適用於需要避免機械夾具劃傷或需要真空兼容的場合。
應用領域:
1. 半導體研發機構
處理碎片化晶圓、單顆芯片驗證
新材料、新工藝的實驗性夾持
失效分析與逆向工程中的樣品固定
2. MEMS微機電係統製造
苛刻切割過程中的芯片固定
濕法刻蝕、幹法刻蝕前的夾持
釋放工藝前的臨時鍵合替代方案
3. 化合物半導體與光電器件
脆性材料(如氮化镓、砷化镓、藍寶石)的無損夾持
激光劃片、裂片過程中的固定
單顆器件測試與封裝前處理
4. 高校實驗室與科研院所
微納加工教學演示
學生實驗中的樣品夾持
跨學科研究中的臨時固定需求
5. 特殊環境工藝
真空鍍膜(如濺射、蒸發)中的基片固定
腐蝕性氣體/液體環境下的刻蝕與清洗
高溫或低溫工藝中的夾持
產品配置
jingdiankapannenggoutongguojingdianlijiangduogexinpianyijijingpiandeyibufenjiajindaojingpianxipanshang。zhezhongshebeiduiyuyanfajigoufeichangyouyong,yinweibingfeizongshikeyichuliwanzhengdejingyuan。 通過電靜力夾持芯片,可以在HF蒸汽釋放之前執行 MEMS 晶圓的
嚴格切割工藝。 該設備對於研發機構來說非常有用,因為研發機構並不總是能夠處理完整的晶圓。芯片的靜電夾緊允許在氫氟酸蒸汽釋放之前對MEMS晶片進行苛刻的切割過程。通過修改經典的製造順序,可以在輕腐
蝕性液體下刻蝕出MEMS器件。通過修改傳統的製造順序,可以生產出具有極其柔軟懸浮結構的 MEMS器件。 電靜力卡盤的使用非常簡單。 將芯片放置在晶圓支架上,並通過控製箱上的開關打開電力,並且電靜力的
大小可以進行調整。
優點:
操作簡單:將芯片放置在晶片架/吸盤上,通過控製器箱上的開關即可開啟靜電力。
可調節性:靜電力大小可調,以適應不同尺寸或材質的芯片,避免損壞脆弱的MEMS結構。
適用環境:特別適用於需要避免機械夾具劃傷或需要真空兼容的場合。
應用領域:
1. 半導體研發機構
處理碎片化晶圓、單顆芯片驗證
新材料、新工藝的實驗性夾持
失效分析與逆向工程中的樣品固定
2. MEMS微機電係統製造
苛刻切割過程中的芯片固定
濕法刻蝕、幹法刻蝕前的夾持
釋放工藝前的臨時鍵合替代方案
3. 化合物半導體與光電器件
脆性材料(如氮化镓、砷化镓、藍寶石)的無損夾持
激光劃片、裂片過程中的固定
單顆器件測試與封裝前處理
4. 高校實驗室與科研院所
微納加工教學演示
學生實驗中的樣品夾持
跨學科研究中的臨時固定需求
5. 特殊環境工藝
真空鍍膜(如濺射、蒸發)中的基片固定
腐蝕性氣體/液體環境下的刻蝕與清洗
高溫或低溫工藝中的夾持
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