我們提供了一種基於使用高功率LED和高級均勻化光學元件的創新紫外線照明係統。該產品線適用於光刻膠曝光（UV-LED光刻和固化），適用於MEMS、微流體、光子學

、半導體和光伏應用中

使用的各種基板和光刻膠。

我們的標準UV照明產品係列滿足了300毫米寬（11.8英寸）掩模和晶片的光刻需求。可以根據您的具體要求設計定製解決方案（例如，改裝口罩對準器，為您未來的產品提供OEM）。

有關UV-LED改裝和定製曝光,係統的更多詳細信息
，請聯係我們銷售工程師。

為什麼選擇LED技術？

直到近期，汞弧燈是能夠提供適用於紫外光刻曝光的光源。由於LED技術的進步，UV LED已成為危險和耗能汞燈的一種非常有吸引力的替代品。

除了生態和安全方麵
，與傳統汞燈相比
，UV LED的技術優勢在光刻方麵是眾多而重要的。UV LED的一個主要優點是它們在很長的壽命內以一致的發射運行。因此，不需要進行日常校準和維護。

此外
，通過更節能
，LED減少了加熱，較大簡化了係統冷卻。值得注意的是，可以組合在365nm、405nm和435nm（峰值波長）發射的LED來模擬汞弧燈的UV-A光譜（汞元素的i線
、h線和g線特征峰）。

UV-LED曝光的優勢：

照明穩定
，無需日常校準

瞬時開啟，隻在曝光時開啟
，不需要機械快門

使用壽命長，意味著不再需要耗材

窄光譜：不會對基材產生不必要的加熱
，工藝更可重複

低功耗

無維護成本