MDA-20SA光刻機
光刻機又名：掩模對準曝光機
，曝光係統
，光刻係統，光刻機，紫外曝光機等；
MIDAS為全球半導體設備供應商
，多年來致力於掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產，並且廣泛應用於半導體、微電子
、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上較早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術

研發力量和設備生產能力；並且其設備被眾多大型企業
、研發中心、研究所和高校所采用；以優異的技術、精湛的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。
產地：韓國MIDAS公司，能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比
型號：MDA-20SA
廠家鏈接：http://www.midas-china.com.cn/
MDA-20SA

操作簡單，可編程控製器（PLC）操作，PC控製，圖像采集和數據記錄

，100多個程序配方
，電動操縱杆控製，電動變焦顯微鏡和工作台，顯微鏡位置控製係統

操縱杆控製
，半自動

掩模版尺寸規格
，用戶訂製

基板尺寸規格（大麵積），用戶訂製

均勻光束規格，用戶訂製

紫外線光源：紫外線燈
，5 kW

光束波長350~450 nm

光束均勻度<±7%

365 nm強度5 kW: ~45 mW/㎠

對準方法：操縱手柄控製半自動

對準精度1 um

工藝模式：軟、硬
、真空接觸和接近

分辨率：透鏡 >3 um，反射鏡：>9 um

MDA-20SA不是一款通用設備，而是一把為解決特定工藝難題而打造的“特種工具”，它麵向的是那些無法使用標準圓形矽片的特殊應用，例如：

• 大尺寸平板或麵板級封裝；

• 非矽基的特殊材料（如陶瓷、玻璃
  、金屬）上的圖形化；

• 大型MEMS或傳感器基板；

• 其他需要非標尺寸光刻的研發或小批量生產；

如果您所在的領域恰好有此類非標準



、大麵積的圖形化需求，那麼MDA-20SA這種可定製化的解決方案就顯示出了其不可替代的價值。